Йошкар-олинский производитель печатных плат «Технотех» получил первый патент на раствор для удаления фоторезиста и концентрат для его приготовления.
Задача встала в 2022 году с введением санкций, которое привело к остановке поставок спецхимии из-за рубежа. Когда состав для удаления фоторезиста на предприятии стал заканчиваться, решили попробовать создать его аналог самостоятельно.
Автором изобретения выступил руководитель Центра научных разработок предприятия Андрей Алкаев. Основу создали за две недели, после чего работали над устранением недостатков.
Заняла время и подготовка к процессу патентования и выхода на рынок.
Как рассказали на предприятии, ключевыми преимуществами нового состава являются высокая скорость удаления фоторезиста, щадящее взаимодействие с материалами подложки (оловом и медью), увеличенный срок службы и ряд других улучшенных технологических показателей. Немаловажен и значительный экономический эффект: стоимость изготовления раствора собственного производства в разы ниже импортных аналогов, включая китайские.
Напомним, недавно Кулик рассказал, что в этом году в Марий Эл произведено более двух с половиной миллионов литров безалкогольных напитков.
